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高温无氧洁净烘箱
高温洁净无氧烘箱是一款专门设计用于在洁净无氧环境下进行烘烤的设备，主要应用于固化半导体（光刻胶PI、PBO固化）、PLB固化、IC封装（铜基板、银胶，硅胶、环氧树脂）玻璃基板、柔板烘烤、高精度退火处理等。它的主要特点是能够在高温烘烤下创造一个低氧甚至无氧的洁净环境，以防止物料在加热过程中因接触氧气而发生氧化反应或被微小尘埃颗粒污染。
防静电防潮箱GRD1430F-6
洁净无尘烘箱
该设备是一种新型工业级洁净干燥设备，采用独特的内外舱分体结构结合内循环风道设计，通过耐高温超高效过滤器H.E.P.A不断对内部进行自净化过滤，从而形成高洁净、温度均匀的密闭的高温热风烘烤环境，该设备广泛应用于半导体晶圆、液晶、光学模组、精密器具等干燥和热处理。
防静电节能型氮气柜GRD1430NF-6-2
真空烘箱
真空烘箱是一款在真空或低气压环境下进行加热或干燥的设备，通过抽真空系统降低设备内气压，使产品材料在无氧或低压条件下进行脱水、固化、退火等工艺，适用于电子制造、化工、制药、航空航天、新能源、实验室研究等，它的主要特点是能提供无氧低压环境、低温高效干燥、高洁净度、高密封性。
电热恒温鼔风干燥箱
电热恒温干燥箱是一款通过电加热与智能温控系统实现恒温干燥的基础设备，广泛用于实验室、工业生产和质量控制中，对物料进行烘干、固化、热处理或恒温储存。它的主要作用是干燥脱水，去除样品中的水分或溶剂（如药品、食品、化工原料）热处理材料老化测试、胶水固化、陶瓷预烧等； 恒温环境：为实验或生产提供稳定的温度条件（如细菌培养箱预热）适用领域：实验室研究、医药生产、食品加工、电子元件制造、化工合成等。
HMDS 真空烘箱
HMDS烘箱是一款专为半导体制造和微电子工艺设计的特殊烘箱，主要用于在晶圆表面涂覆六甲基二硅氮烷（HMDS），以增强光刻胶与基材的附着力。其核心功能是通过精确控制温度、洁净度及气体环境，完成HMDS的均匀涂覆与溶剂挥发，确保光刻工艺的稳定性和良品率。 主要用于晶圆表面疏水化处理，提升光刻胶附着力；去除基材表面微量水分，防止光刻胶脱落或图形缺陷；兼容半导体前道制程（如光刻、刻蚀）的关键预处理步骤，主要适用领域半导体芯片制造、MEMS（微机电系统）、先进封装、光学器件加工等。
充氮烘箱
充氮烘箱是一款在氮气环境下进行加热或干燥的设备，主要用于对氧气敏感的材料处理、半导体电子元器件的干燥和固化，处理易氧化或易燃的化学品，它的主要特点是避免材料在高温下氧化或变质，温度控制精准，安全性高，密封性好。
高温烘箱
高温烘箱是一款专为高温环境设计的加热设备，能够在软高于常规烘箱的温度，通常为200℃到500℃；部分型号可达600℃以上，对材料进行长时间烘干、固化、退火、老化测试或高温热处理，其核心特点是耐高温性能强，热稳定性高，适用于对温度要求严苛的工业生产和实验室研究，广泛应用于冶金、陶瓷、化工、材料科学、汽车制造、航空航天领域。
热风循环烘箱
热风循环烘箱是一款通过强制热风循环系统实现均匀加热的干燥设备，利用循环风机将热空气在箱内持续流动，确保产品受热均匀、干燥高效。主要用途适用于大批量产品材料的烘干、固化、脱水或热处理，尤其适合对温度均匀性要求较高的工艺，化工燃料干燥，电子元件老化测试，适用于化工、制药、电子、实验室等